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5.4 非电离辐射防护
5.4.1 对于在生产过程中产生非电离辐射的设备,应采取有效的屏蔽、接地、吸收等防护措施及自动化或半自动化远距离操作。
5.4.2 在机械工程建设项目设计中,应对下列工作场所设置电磁防护措施:
1 淬火、熔炼、焊接、硬质合金刀具固定加热、半导体加工区熔及外延等感应加热处;
2 木材干燥和塑料热合等介质加热处;
3 射频溅射处。
5.4.3 大于或等于0.1MHz且小于30MHz高频电磁场辐射防护设计,其8h职业接触限值不应大于表5.4.3的规定。
表5.4.3 工作场所高频电磁场职业接触限值
5.4.4 大于或等于30MHz且小于300MHz超高频辐射防护设计,职业接触限值不应大于表5.4.4的规定。
表5.4.4 工作场所超高频辐射职业接触限值
5.4.5 电磁辐射防护应采用屏蔽和接地,并应计算近区场强分布且分别设置辐射单元屏蔽、设备整体屏蔽或作业室屏蔽。
5.4.6 电磁屏蔽体的位置,应符合下列规定:
1 电磁屏蔽体与电力架空线路及变电站的最小距离,宜符合表5.4.6的规定;
表5.4.6 电磁屏蔽体与电力架空线路及变电站的最小距离
2 测试、实验用电磁屏蔽体,应远离工业、科学和医疗射频设备,其之间的直线距离不应小于50m;
3 规模较大的电磁屏蔽体,宜设在建筑物的一层或地下层;
4 电磁屏蔽体应避开建筑的抗震缝、伸缩缝、沉降缝,且不宜与潮湿房间相邻。
5.4.7 电磁辐射屏蔽体的材料选择,应根据屏蔽效能、造价、耐腐蚀性、施工难易程度等因素确定。
5.4.8 电磁屏蔽体应根据其功能、试验和安全防护等要求,设置视频安防监控系统;安防监控系统的设计,应符合现行国家标准《视频安防监控系统工程设计规范》GB 50395的有关规定。
5.4.9 电磁屏蔽体所在的主体建筑物出入口处,应设置出入口控制系统;出入口控制系统的设计,应符合现行国家标准《出入口控制系统工程设计规范》GB 50396的有关规定。
5.4.10 电磁屏蔽体,应设置入侵报警系统;入侵报警系统的设计,应符合现行国家标准《入侵报警系统工程设计规范》GB 50394的有关规定。
5.4.11 单点接地的电磁屏蔽体与建筑物地面、柱、梁、墙之间应绝缘,且对地绝缘电阻不应小于10kΩ。
5.4.12 电磁屏蔽体的接地电阻值,应符合下列规定:
1 设有单独接地装置的电磁屏蔽体,接地装置的接地电阻不应大于4Ω;
2 电磁屏蔽体与建筑物采用联合接地时,接地装置的接地电阻不应大于1Ω;
3 特殊用途的电磁屏蔽体或对接地有特殊要求的电磁屏蔽,应按工艺要求确定。
5.4.13 机械工程建设项目中,对激光切割、激光打孔、激光焊接、激光热处理、激光检测等激光加工,应按激光设备的类别采取相应的激光辐射安全防护措施;激光辐射安全防护设计,应符合现行国家标准《激光产品的安全 第1部分:设备分类、要求》GB 7247.1 的有关规定。
5.4.14 工作场所激光辐射的最大允许照射量,应符合国家现行标准《工作场所有害因素职业接触限值 第2部分:物理因素》GBZ 2.2的有关规定。
5.4.15 激光设备的选择,应符合下列规定:
1 应选择具备良好防护罩和控制器的设备;
2 激光射束靶耐火性能应良好;
3 在2类以上激光设备光路终端,应设有反射率低及热效应的漫反射材料或可使光路终止的吸收体;
4 4类和3B类激光设备,除在400nm~700nm波长内不超过2类可达发射极限5倍的3B类激光设备外,应设置遥控联锁装置、钥匙开关、光束终止器或衰减器以及报警装置。
5.4.16 2类以上激光设备应设在专用室内,工作场所应处于关闭状态;室外应设有警告标识和红色指示灯;室外应设置高压电源开关。
5.4.17 激光室内墙面和天棚应做成白色漫反射,地面应铺深色不反光的橡胶或地板,窗应采用毛玻璃。
5.4.18 激光设备布置应避免射束朝门窗方向投射,且不应处于人眼视线范围内;射束应低于地面0.92m或高于地面2m。
5.4.19 在高能量的激光设备射束靶上方,污染物排除处应装设排风罩。
5.4.20 易燃及易爆品,应远离激光设备。
5.4.21 工作场所工频电场职业接触限值和工作场所紫外辐射职业接触限值,应符合国家现行标准《工作场所有害因素职业接触限值 第2部分:物理因素》GBZ 2.2的有关规定。
5.4.2 一定强度的电磁辐射会对人体健康造成有害影响,如白内障、体温调节相应的过荷、热伤害、行为性能改变、痉挛、耐久力下降以及神衰症候群等。因此有必要对其进行防护设计,采取必要的防护措施。
5.4.3、5.4.4 规定的限值引自现行国家职业卫生标准《工作场所有害因素职业接触限值 第2部分:物理因素》GBZ 2.2。
5.4.6 本条说明如下:
1 本款规定了电磁屏蔽室与架空电力线路及变电站(所)相互最小距离,本款主要参考苏联高压输电线路电磁干扰允许值和我国一些城市规划中电力干线的距离要求确定。但用于变配电工程的电磁屏蔽室不受上述限制。
2 测试、实验用电磁屏蔽室距离工业、科学和医疗射频设备干扰源一般不宜小于50m,主要因这些干扰源可能产生150kHz~18GHz干扰辐射电磁波。但屏蔽室内设备产生的电磁场影响周围环境时可不受上述限制。
3 电磁屏蔽室设在一层或者地下层,一是施工安装较方便,二是在地下层可以减弱外界电磁干扰或向外的电磁辐射,从而降低电磁屏蔽室工程投资。本款主要引自现行国家标准《电磁屏蔽室工程技术规范》GB/T 50179-2011。
5.4.7 低碳钢板已是国内屏蔽工程的主要使用材料,价格合理,施工简单。
5.4.11 本条规定主要是考虑防潮和防止二次干扰电流的影响。单点接地减小了屏蔽体上的环电流,使设施上任意两点间的点位最小。
5.4.13 激光直射或反射、散射到眼睛或皮肤时,可以造成不同程度的损伤。在机械工业中往往使用大功率激光加工系统,对人体的危害也绝对不可忽视。
5.4.17 本条规定是为了减少镜面反射,借以减少进入眼内的激光量。
5.4.20 本条规定是为了防止高能量激光束直接照射到易燃、易爆的物品上,从而引起火灾或爆炸事故。
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