目 录 上一节 下一节 查 找 检 索 手机阅读 总目录 问题反馈
9.3 废水处理
9.3.1 废水处理应遵循节水优先、分质处理、优先回用的原则。
9.3.2 废水处理设施的位置应满足工艺总体布局要求。
9.3.3 废水处理设施应根据工艺生产排出的废水种类、浓度及水量确定,处理后的出水水质应符合国家和地方的有关排放要求。
9.3.4 高浓度含氟废液必须采取预处理措施。
9.3.5 距废水处理设施构筑物的10m~50m的区域宜设置地下水监测点。
9.3.1 处理后废水应优先回用至尾气淋洗工艺,多余部分外排。
9.3.2 多晶硅工厂产生的生产废水主要为尾气淋洗废液,废液处理设施尽量与尾气淋洗设施就近设置,同时考虑处理用药剂及产生污泥的运输。
9.3.4 本条是强制性条文。硅料清洗产生的含氟废酸氟含量偏高,腐蚀性强,在处理时应采取措施防止液体泄漏及氢氟酸挥发至大气中,造成污染,故应单独处理。同时单独处理含氟废酸,可减少处理药剂用量,保证整个工厂处理排水最终达标排放。此部分废液可先单独预处理后再与其他生产废水混合处理。
9.3.5 废水调节池、尾气淋洗水解池等泄漏时,会对地下水造成污染,宜在地下水下游设置1处检测点,监测地下水酸碱度(pH值),氯、氟及溶解盐等污染物的含量。
说明 返回
顶部
- 上一节:9.2 排水
- 下一节:9.4 循环冷却水系统
目录导航
- 前言
- 1 总则
- 2 术语
- 3 基本规定
- 4 厂址选择及厂区规划
- 4.1 厂址选择
- 4.2 厂区规划
- 5 工艺设计
- 5.1 一般规定
- 5.2 三氯氢硅合成和四氯化硅氢化
- 5.3 氯硅烷提纯
- 5.4 三氯氢硅氢还原
- 5.5 还原尾气干法回收
- 5.6 硅芯制备及多晶硅产品后处理
- 5.7 分析检测
- 6 电气及自动化
- 6.1 电气
- 6.2 自动化
- 7 辅助设施
- 7.1 压缩空气站
- 7.2 制氮站
- 7.3 制氢站
- 7.4 导热油
- 7.5 纯水制备
- 7.6 制冷
- 7.7 蒸汽
- 8 建筑结构
- 8.1 一般规定
- 8.2 主要生产厂房和辅助用房
- 8.3 防火、防爆
- 8.4 洁净设计及装修
- 8.5 防腐蚀
- 8.6 结构设计
- 9 给水、排水和消防
- 9.1 给水
- 9.2 排水
- 9.3 废水处理
- 9.4 循环冷却水系统
- 9.5 消防
- 10 采暖、通风与空气调节
- 10.1 一般规定
- 10.2 通风
- 10.3 空气调节与净化
- 10.4 防排烟
- 10.5 空调冷热源
- 11 环境保护、安全和卫生
- 11.1 环境保护
- 11.2 安全
- 11.3 卫生
- 12 节能、余热回收
- 12.1 一般规定
- 12.2 生产工艺
- 附录A 地下管线与建(构)筑物之间的最小水平净距
- 附录B 地下管线之间的最小水平净距
- 附录C 主要房间空气洁净度、温度、湿度
- 本规范用词说明
- 引用标准名录
-
笔记需登录后才能查看哦~