目 录 上一节 下一节 查 找 检 索 手机阅读 总目录 问题反馈
7.2 制氮站
7.2.1 制氮站可与压缩空气站设置在同一建筑物内,也可靠近压缩空气站;制氮用的压缩空气与作为仪表气源的压缩空气可由同个机组产出,也可分机组独立产出。
7.2.2 氮气质量应符合下列规定:
1 压力应大于或等于0.7MPa;
2 氮气纯度应大于或等于99.999%;
3 露点应小于或等于—65℃。
7.2.3 制氮站供气量应包含工艺生产系统置换用气、保护用气及管网损耗的总用量,并应大于生产事故的最大用量。
7.2.4 制氮站的液氮储存量应根据制氮机组事故状况下恢复正常产气的时间确定,应保证主生产系统的安全用量。
7.2.5 制氮系统应具有自动调节气量功能,并应根据用气需求降低或提高产气负荷。
7.2.4 氮气一般用作多晶硅工厂的保护和置换用气;工厂投运后,对氮气的需求就不能间断,而氮气机组一旦出现事故停车后再次启动或备用机组启动都需要大约2h~20h,这期间需要汽化液氮补充氮气,因此液氮储量需要保证这期间的系统用气量。
说明 返回
顶部
目录导航
- 前言
- 1 总则
- 2 术语
- 3 基本规定
- 4 厂址选择及厂区规划
- 4.1 厂址选择
- 4.2 厂区规划
- 5 工艺设计
- 5.1 一般规定
- 5.2 三氯氢硅合成和四氯化硅氢化
- 5.3 氯硅烷提纯
- 5.4 三氯氢硅氢还原
- 5.5 还原尾气干法回收
- 5.6 硅芯制备及多晶硅产品后处理
- 5.7 分析检测
- 6 电气及自动化
- 6.1 电气
- 6.2 自动化
- 7 辅助设施
- 7.1 压缩空气站
- 7.2 制氮站
- 7.3 制氢站
- 7.4 导热油
- 7.5 纯水制备
- 7.6 制冷
- 7.7 蒸汽
- 8 建筑结构
- 8.1 一般规定
- 8.2 主要生产厂房和辅助用房
- 8.3 防火、防爆
- 8.4 洁净设计及装修
- 8.5 防腐蚀
- 8.6 结构设计
- 9 给水、排水和消防
- 9.1 给水
- 9.2 排水
- 9.3 废水处理
- 9.4 循环冷却水系统
- 9.5 消防
- 10 采暖、通风与空气调节
- 10.1 一般规定
- 10.2 通风
- 10.3 空气调节与净化
- 10.4 防排烟
- 10.5 空调冷热源
- 11 环境保护、安全和卫生
- 11.1 环境保护
- 11.2 安全
- 11.3 卫生
- 12 节能、余热回收
- 12.1 一般规定
- 12.2 生产工艺
- 附录A 地下管线与建(构)筑物之间的最小水平净距
- 附录B 地下管线之间的最小水平净距
- 附录C 主要房间空气洁净度、温度、湿度
- 本规范用词说明
- 引用标准名录
-
笔记需登录后才能查看哦~