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4.2 洁净室(区)环境监控设计


4.2.1 根据工艺要求,应对洁净室(区)的空气参数进行监视、测量和记录。

4.2.2 洁净室(区)的监控系统与净化空调的监控系统宜合用,或采用通信的方式进行数据共享。

4.2.3 多个洁净室(区)采用一套监控系统时,应根据最严格的洁净室(区)的温度和湿度要求选择控制系统的精度。

4.2.4 洁净室(区)内外的压差检测,宜采用压差变送器监测。

4.2.5 洁净室(区)安装有过滤器时,宜具有过滤器压差报警功能。

4.2.6 传感器宜对化学物质沉积采取防护措施或具备自洁功能。

条文说明

4.2.1 对温度、湿度、露点温度、压差、洁净度、空气成分等全部或部分空气参数进行监视、测量和记录,并及时报警,维持洁净环境,满足工艺生产的要求。

    对于生产新型显示器件及半导体器件的洁净室环境,悬浮分子污染物(Airborne Molecular Contaminants,AMC)的控制越来越重要。国际半导体设备与材料协会(Semiconductor Equipment and Materials International,SEMI)的标准根据化学品的特性,将洁净室中的空气污染物分为酸(Molecular Acids,MA)、碱(Molecular Bases,MB)、可凝聚物(Molecular Condensables,MC)和掺杂物(Molecular Dopants,MD)。

4.2.2 系统合用便于统一管理,保证数据传输的可靠、及时;如分开设置,需采取措施保证不同监控系统间数据通信的可靠、及时。

4.2.3 在同一栋生产厂房内,工艺段对洁净环境的温度、湿度、压力要求不同,但控制系统共用时,控制系统的选择应满足最严格的要求。

4.2.6 个别生产工艺段有化学沉积现象,化学物质沉积在敏感元件处时会影响测量精度,严重的会使传感器失去功能,因此,要采取适当的防护措施。

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电子工业厂房综合自动化工程技术标准 GB51321-2018
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