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11 空间管理


11.0.1 硅集成电路芯片工厂室外空间管理,应符合下列规定:
    1 室外管线宜采用架空敷设的方式集中布置;
    2 室外管架不应影响道路的正常通行;
    3 室外管架与邻近的建筑物的间距应满足管道安装及维护的要求;
    4 室外管架宜设置检修马道;
    5 室外管架的空间和荷载应为扩展留有余量。
11.0.2 生产厂房内的空间管理应符合下列规定:
    1 应满足设备的正常生产空间;
    2 不应影响设备维修以及搬入的空间;
    3 应满足辅助设备的维修、安装以及搬入;
    4 应满足设备检修的空间;
    5 管线之间以及管线与建筑物之间应预留足够的安装维修空间;
    6 应计及管道入口的空间及管道井的位置;
    7 应为今后扩展预留管道空间和荷载。
11.0.3 生产厂房内的管道应利用净化区上、下技术夹层的空间进行布置。
11.0.4 净化区上技术夹层内除消防管道外,不宜设置水管及其他液体输送管道。
11.0.5 主要管线在上技术夹层布置时,应计及气流组织的空间、排风管道和大宗气体以及特种气体管道敷设的空间高度。
11.0.6 在上技术夹层内宜设置检修通道。
11.0.7 主要管线在下技术夹层布置时,应计及辅助设备、主管、支管、二次配管和消防喷淋管道的空间高度。
11.0.8 在管道种类多,空间有限的区域宜设置公共管架,并应符合下列规定:
    1 在华夫板下和净化区高架地板下应留有二次配管配线的空间;
    2 尺寸较大的管道宜布置在公共管架的上层;
    3 有坡度要求的管道宜布置在管道的下层;
    4 管道改变方式时宜同时改变管道的标高;
    5 应为今后扩展预留管道空间和荷载;
    6 由梁、柱承重的公共管架宜在结构施工时预埋承重构件。
条文说明
11.0.1 硅集成电路芯片工厂室外管线通常包括冷热水管、蒸汽、大宗气体等。根据管线的特性及当地的自然条件,可采用架空敷设、埋地或管沟敷设等方式,在目前大多数的集成电路芯片工厂都采用在公共管桥上架空敷设方式。主要是基于成本和维护管理以及今后扩展的便利性方面的考虑。
11.0.3~11.0.6 上技术夹层不宜敷设水管及其他液体输送管道,主要为避免管道漏损后,对下方的净化间及工艺设备造成较大的损失。在上技术夹层确定管道敷设时,首先考虑FFU自身的高度以及吸入空气所需的空间。此高度上再考虑排风管道以及大宗气体及特种气体等管道高度。由于上技术夹层通常为金属壁板,承载有限,同时各种吊架较多,如果没有专门的检修通道,日常巡检和维护会较为困难。
11.0.7 目前产能较大的6英寸、8英寸及12英寸硅集成电路芯片工厂由于生产辅助设备布置在下技术夹层,主要管线也布置在下技术夹层。在下技术夹层的空间管理中首先考虑辅助设备搬运和操作的高度范围,之上按高度分别划分为主管、支管以及二次配管和消防喷淋管道的范围,在设计中可以遵循此原则来规划各系统的管线走向和标高。
11.0.8 硅集成电路芯片厂房内的管道种类繁多,十分密集,如各自独立设置的吊杆和支架,会造成空间吊杆密集,严重影响管道的通行。因此在主要管道通行的区域,宜集中布置公共管架,支、吊架水平间距应根据所有管线最小间距及材料成本统一考虑。
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硅集成电路芯片工厂设计规范 GB50809-2012
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